创建2个粒子系统对象A，B
这个2个对象都用CCParticleBatchNode进行批处理渲染优化
先A-> setTotalParticles( 200 * 1000 ) ; 设置粒子系统对象A有2万个粒子
然后，B-> setTotalParticles( 200 ) ;
A，B对象不释放，而是反复利用。
运行后发现，B粒子系统没有效果。
经过实验，如果把A-> setTotalParticles( 200 * 1000 ) ;改成了
A-> setTotalParticles( 1000 ) ;
也就是降低粒子系统A对象的粒子总数，那么，B粒子系统才会起作用
貌似，如果A设置了一个较大的粒子总数后，
会“占用”掉以后创建的粒子系统的粒子总数，
经过测试，这个情况在用CCParticleBatchNode进行优化时才会出现
一个Batch大概支持16370个粒子，多了就支持不了了，
运行不会出错，就是不显示多出来的粒子效果
请问，如何设置增大这个Batch的最大粒子个数的限制？
来保证，在用Batch优化的同时，
A，B都能用 setTotalParticles 设置一个较大的粒子总数，
并且都能起作用